三星与ASML达协议 采购下一代 High-NA EUV曝光机

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三星电子副董事长李在镕本月初赴欧洲之行，他在 6 月 14 日前往 ASML 位于荷兰 Veldhoven 的总部拜访执行长 Peter Wennink ，两家公司签署一项协议，将引进今年生产的 EUV 曝光机和计划于明年推出高数值孔径极紫外光 High-NA EUV 曝光机。

High-NA EUV 曝光机设备精密度更高、设计零件更多，是延续摩尔定律的关键，推动 2 奈米以下制程电晶体微缩，估计每台要价 4 亿美元 (5000 亿韩元)。

ASML (ASML-US) 今年只能生产 50 台 EUV 设备，交货周期为 1 年又 6 个月，ASML 有限的生产能力和较长的交货时间正加剧各大晶圆代工厂订购 High-NA EUV 曝光机的竞争。

李在镕此次欧洲行就是要积极确保稳定供应，期许在先进制程上追赶台积电，抢坐市占第一宝座。

英特尔 (INTC-US) 早前已率先与 ASML 签约采购 5 台这款新设备，还宣称 2024 年初就能生产 20A (2 奈米)、2024 年下半更能生产 18A (1.8 奈米)。台积电也在 6 月 16 日美国矽谷研讨会上表示，台积电 (2330-TW)(TSM-US) 会在 2024 年拥有 ASML 次世代最先进的曝光机。

该报导指出，High-NA EUV 曝光机应用于其晶片制程的具体时间尚未确定，但考虑到交货时间，预计三星将从 2024 年开始实际使用这项设备。

近期一些市场观察人士呼吁韩国政府对半导体业提供更多支持，前三星电子半导体研究所所长 Kim Kwang-gyo 近期表示韩国政府对半导体产业过于轻视，若不果断扩大投资和解决半导体产业问题，韩国半导体业会面临死路一条的局面。

三星电子已获得 ASML 今年 EUV 曝光机产能中的 18 台。这意味三星仅在 EUV 曝光机上就将投资超过 4 兆韩元。一位业内人士表示，如果三星采购 10 台 High-NA EUV 曝光机，三星将花费超过 5 兆韩元，政府有必要扩大支持，以提高韩国国家产业竞争力。