5nm的国产刻蚀机稳了，已通过台积电验证，用于苹果、华为芯制造

众所周知，这一两年中国芯的发展受到了空前的关注，于是制造芯片的中国企业，以及国产的半导体设备也是受到空前的关注，因为制约我们芯片发展的不仅是技术，还有各种各样的半导体设备。

而在这些半导体设备之上，光刻机可能是最受关注的设备了，因为目前中国离国际领先水平差得实在太远了，像最强的ASML光刻机可用于5nm的芯片制造了，而中国产的还在90nm水平，差了至少是10年以上。

当然，在芯片制造过程中，还有一种设备被人经常和光刻机搞混，那就是刻蚀机。很多人都把这两种机器混为一谈，其实并不是的，两种设备的作用似乎有点相反，光刻机用来在硅晶圆上刻画电路图，而刻蚀机则是把没刻画电路图的晶圆去掉。

这两种设备在芯片制造中，都很重要，只是因为国产的刻蚀机水平完全是世界领先的，早已摆脱了对国外厂商的依赖，所以大家提得相以较少而已。

近日，中微半导体CEO尹志尧博士表示，目前中微生产的5nm刻蚀机（用于5nm工艺的等离子蚀刻机）已经通过了台积电的验证，明年将正式用于台积电5nm芯片的生产之中了。

而明年5nm芯片将会是谁，台积电最大的客户是苹果，5nm的芯片将会是A14，其次是华为，5nm芯片将会是麒麟1020(暂命名)，可能还会有高通、AMD等客户。

对于这样一家企业，这样的国产刻蚀机，不知道大家是什么样的感想，我想说的是希望这样的企业在中国越多越好，只有这种掌握核心科技的企业多了，中国的芯片才能全面崛起。

接下来就看国产光刻机的了，一旦刻蚀机有了，光刻机有了，那整个半导体设备领域，对国外的依赖性就不那么强了，你觉得呢？